为了跟上迅猛增长的全球需求，DRAM 和 NAND 闪存制造商需要最大限度地提高产能，同时保持至高的质量、一致性和可靠性。实现这些目标使晶圆厂制程面临着艰巨的挑战。

晶圆厂面临的主要挑战：

  • 生产高深宽比结构
  • 结设计扩展最大化
  • 解决多重曝光中的问题

Axcelis 解决方案：

我们依托业界先进离子注入解决方案，助力存储器制造商解决这些挑战。我们的 Purion 平台提供：

  • 独有的 Vector™ 控制系统实现精确角度控制
  • Eterna™ ELS 离子源实现无与伦比的能量纯度
  • 业界领先的颗粒物和金属污染控制
  • 最广泛的注入元素应用于材料改性
  • 通过缺陷管理技术，最大限度地提高质量和产能

了解我们针对大束流、高能量、中束流，或中能量应用提供的 Purion 平台注入解决方案。