Purion H200 是先進的單晶圓高電流中能量植入機，同時也是市場唯一真正的高電流中能量工具，擁有業界最廣泛的能量範圍 (從 10keV 到 230keV)。Purion H200 結合 Purion H 的先進離子束束管與 Purion M 的高能量植入能力，完美銜接高電流功率與中電流的精密度

純度

採用 Axcelis 的混成式過濾架構來過濾金屬，透過專有的角度能量過濾器設計來過濾能量污染，以及使用改良的幫浦達到減輕光阻劑釋放氣體的效應。

精密度

Purion H200 配備 Vector 劑量和角度控制系統，可提供角度精準的離子束，而獨特的恆定焦距掃描，能在晶圓的頂部和底部實現相同的劑量率，即便在高傾斜情況下也可以達到理想的效果。

生產力

透過高電流離子束束管結合中電流的加速能力設計，在中能量領域提供無與倫比的生產力。