Purion H 离子注入机将业界领先的中束流平台制程控制全方位带到高要求的大束流应用领域。灵活的平台使我们能够根据具体应用的能量或剂量要求，量身定制 Purion H。Purion H 提供无可匹敌的多功能性、产能和均匀性，让您兼顾高良率和最低的拥有成本。

纯度

Purion Contamination Shield™ 实现独特的扫描点状离子束结构。Purion 大束流平台采用了五层过滤离子束路径设计，包括一台经过现场验证的能量过滤器，以达到极高纯度。每个机台均配置专利型无灯丝微波等离子体电子流 (PEF)，实现晶圆电荷中和，无额外金属污染。

精度

Purion Vector™ 剂量和角度控制系统通过水平和垂直角度的精确测量和控制，确保掺杂元素在整个晶圆上实现高度精确均匀分布。扫描点状离子束结构使用独特的损伤调节功能，调整注入的深度分布，可优化器件性能。

产能

IdealScan™ 是 Axcelis 的专利技术之一，用于扫描点状离子束，使束流在有效区域内最大化。  将大束流技术与 Purion 500 片/小时基站组合，使 Purion 大束流机台实现了最大产能。