Purion H 離子植入機將我們的中電流平台的領先業界製程控制帶入了各種高要求的高電流製程應用。該平台的靈活性使定制的 Purion H能夠應用在您製程的特定能量或劑量要求。Purion H 提供無與倫比的多功能性、生產能力和均勻性，因此您可以最低的生產成本實現更高的良率。

純度

獨特的 Purion Contamination Shield™ 掃描點狀離子束架構。 Purion 高電流平台採用五層過濾之離子束通道設計，包括經過客戶驗證的能量過濾器，可實現極高能量純度。每個系統均配有專利的無燈絲微波電漿電子槍 (PEF)，可實現晶圓電荷中和，不會造成額外的金屬污染。

精密

Purion Vector™ 劑量和角度控制系統經過精密測量和控制水平及垂直角度，確保在整個晶圓上高度精確、均勻的地植入摻雜。掃描點狀離子束架構使獨特的缺陷工程調節能夠控制植入輪廓以優化電子元件性能。

生產力

IdealScan™ 是一項 Axcelis 專利技術，用於掃描點狀離子束，以最大程度地利用點狀離子束在晶圓區域獲得最高離子束電流。  結合高離子束電流和 Purion 500 wph 傳送機構使 Purion 高電流植入機的生產率達到最高。