DRAM・NANDフラッシュメモリのメーカーは、爆発的な世界需要に対応できるよう、最高レベルの品質、一貫性、信頼性を維持しながら生産性を最大限に高めることが求められています。このような目標を達成するには、手ごわい課題がメーカーの製造工程に対して突き付けられています。

主な製造上の課題：

  • 高アスペクト比構造の実現
  • 微細化への接合形成技術の最大化
  • マルチパターニング問題の管理

Axcelisのソリューション：

当社は、業界最先端のイオン注入ソリューションを用いて、これらの課題に対するメモリメーカーの取り組みを支援いたします。当社のPurionプラットフォームは以下をご提供いたします。

  • 当社独自のVector™制御システムを用いた精密な角度制御
  • Eterna™ ELSソースを用いた他にはないエネルギー純度
  • 業界をリードするパーティクル・金属混入制御
  • 広範なイオン種による材料改質
  • 品質と生産性を最大限に高めるダメージエンジニアリング

高電流、高エネルギーまたは中電流、または中エネルギーのPurionソリューションの詳細を見る。