Purion Hイオン注入装置は、需要の大きいあらゆる高電流用途において、当社の中電流プラットフォームの業界最高レベルのプロセス制御を可能にします。プラットフォームの柔軟性が高いため、Purion Hをお客様の用途特有のエネルギーやドーズ量の要件に適合させることができます。Purion Hは他にはない多用途性、スループット、均一性を提供し、所有コストを最低限に抑えながら、より高い歩留まりを実現します。

純度

Purion Contamination Shield™を搭載した独自の走査スポットビームアーキテクチャ。Purion高電流プラットフォームは、現場で実証された高純度エネルギーフィルタを含む5フィルタのビームライン設計を特徴としています。各システムには特許取得済みのフィラメント不使用マイクロ波プラズマエレクトロンフラッド（PEF）が搭載されているため、さらなる金属混入を引き起こすことなくウェハの中和を行うことができます。

精度

Purion Vector™ドーズ量・角度制御システムは、水平角・垂直角両方の測定と制御を精密に行うことで、ウェハ全体において確実に高精度かつ均一なドーピングを実現します。また、走査スポットビームアーキテクチャにより、独自のダメージエンジニアリング調整ノブが注入形状を調整し、デバイスの性能を最適化できます。

生産性

IdealScan™はAxcelisが特許を取得している技術で、注入領域において最も高いビーム電流を得るために最大限に効率化されたスポットビームの走査を行います。高ビーム電流とPurion 500wphエンドステーションの組み合わせが、生産性の最も高いPurion高電流ツールを構成します。