お客様と共同で開発したPurionシリーズのイオン注入装置は、現在そして将来へ向けて、10nm以下の製造工程における課題に対応できるよう作られています。21世紀のアーキテクチャに基づいて作られたPurionプラットフォームは、独自の実現技術を用いて最も高い純度、精度、生産性を提供しながら、所有コストを最低限に抑えるよう設計されています。
製品
概要
未来へ向けて作られたイオン注入プラットフォーム
高いスループット、高い一貫性
Purionプラットフォームの最先端の設計が最大500WPHのスループットを提供し、生産性を最大限に高めます。真の枚葉ウェハプラットフォームとして、Purionはバッチ注入装置では不可能なレベルの一貫性と再現性を確実に実現いたします。
お客様のニーズに合わせたオーダーメイド
特殊な注入や工程の要件はございませんか？ Axcelisの技術者がお客様と共同で技術拡張の開発を行い、お客様のPurion注入装置を精密なニーズに合わせて最適化いたします。ニーズの進化に伴って、お客様のPurionプラットフォームも進化し、将来への投資を保護します。
